MICROTEST

distributeur français d’équipements et consommables pour l’industrie du Semiconducteur.

Contactez-nous

Atomic Layer Deposition (ALD)

Technologie Encapsulix : innovante, rapide et efficace

  • Distribution extrêmement uniforme du flux de gaz à grande vitesse grâce à une conception unique des injecteurs, sous brevet.
  • Injection précise et rapide des gaz
  • Purge ultra haute efficacité (réduction temps de purge)
  • Conception très robuste (longue durée de vie)
  • Aucun dépôt parasite (ne nécessite pas de nettoyage)
  • Le temps de cyclage est environ 30 fois plus rapide qu’un équipement standard (jusqu’à 100 fois plus rapide).

Équipement compact, fiable et optimisé :

  • Flexibilité de la conception, pour les besoins de recherche et de production
  • Substrats de 200 mm ou grandes dimensions (wafers, verre, supports avec pièces 3D, etc.)
  • Plasma à couplage capacitif avec distribution uniforme des charges électriques
  • Autonome ou en grappe (MESC), cassette loadlock

Équipement hautement configurable :

  • 6 gaz
  • 5 précurseurs de métaux
  • 4 oxydants (y compris l’ozone)
  • Métrologie in situ (QCM, ellipso métrie, spectrométrie d’émission, capteur Impédance,…)
Encapsulix Scaled
Demander un devis

Nos produits

Nos services

Nos partenaires

A propos