L'Infinity M500 d'Encapsulix est un équipement de dépôt par ALD (Atomic Layer Deposition) conçu pour des applications à grande échelle dans la nanotechnologie. Il est idéal pour le dépôt rapide et à basse température sur des substrats de grandes dimensions 400 mm x 500 mm, Cet équipement offre une solution clé en main pour les besoins en R&D industrielle, production pilote et environnements de fabrication à grand volume.
L'Infinity M500 présente de nombreux avantages:
- Technologie brevetée d'injection de gaz : Cette technologie permet une injection laminaire uniforme à grande vitesse, réduisant ainsi les dépôts parasites et améliorant l'efficacité du processus1.
- Performances de dépôt exceptionnelles : Grâce à sa technologie avancée, L'Infinity M500 offre des vitesses de dépôt inégalées (jusqu’à 100A/min) et une uniformité de couche exceptionnelle .
- Polyvalence des applications : Capable de réaliser des dépôts à haute et basse température, l'Infinity M500 est adapté à une large gamme d'applications, y compris les OLED, les micro-affichages, le semi-conducteur, et le photovoltaïque.
- Ergonomie et compacité : Sa conception compacte permet une intégration facile dans divers environnements de production et R&D.
- Support technique et service après-vente : Fabriqué en France, l'Infinity C200 bénéficie d'un service après-vente réactif et d'un support technique efficace.
- Opération autonome ou intégrée en cluster sous vide : L'Infinity M500 peut fonctionner de manière autonome ou être intégré dans un cluster sous vide, offrant ainsi une flexibilité maximale pour les environnements de production.
- Fonctionnement entièrement automatisé : L'Infinity M500 est conçu pour un fonctionnement entièrement automatisé.
- Conception optimisée pour la propreté et la facilité de maintenance : L'Infinity M500 est conçu pour minimiser les besoins de maintenance et maximiser la propreté, garantissant ainsi une production continue et efficace.
L’Infinity M500 est adapté à de nombreuses applications :
- OLED et Électronique Organique : L'Infinity M500 est idéal pour les dépôts sur des substrats en verre Gen 2.5 utilisés dans les OLED et l'électronique organique. Il permet de réaliser des encapsulations de films minces (TFE) pour protéger les dispositifs OLED contre la corrosion et l'humidité, garantissant ainsi une durée de vie prolongée et une performance optimale.
- Photovoltaïque : y compris pour le PV pérovskite, l'Infinity M500 permet de déposer des couches minces sur les cellules solaires, améliorant ainsi leur efficacité et leur durabilité. Ces dépôts protègent les cellules contre les dommages environnementaux et optimisent leur performance énergétique.
- Batteries et Supercondensateurs : l'Infinity M500 permet de déposer des couches minces sur les électrodes, améliorant ainsi leur stabilité chimique et leur performance. Ces dépôts contribuent à augmenter la capacité de stockage et la durée de vie des batteries.
- MEMS et Semi-Conducteurs : L'Infinity M500 est également utilisé pour les MEMS (Micro-Electro-Mechanical Systems) et les semi-conducteurs, où il permet de réaliser des dépôts de haute précision sur des structures complexes. Ces dépôts sont essentiels pour garantir la fiabilité et la performance des dispositifs MEMS1.
- Optique : l'Infinity M500 est utilisé pour déposer des couches minces sur des composants optiques, améliorant ainsi leurs propriétés de transmission et de réflexion. Ces dépôts sont cruciaux pour les applications nécessitant une haute précision optique
- Système d'injection en gaz breveté : Injection laminaire uniforme à grande vitesse, purge ultra efficace, réduction du dépôt parasite.
- Vitesse de dépôt : jusqu’à 100 A/min
- Environ 30 fois plus rapide que les systèmes industriels standards.
- Uniformité des dépôts : ≤ 1% sur 300 mm.
- Taille des substrats : jusqu’à 400 x 500 mm.
- Configurable pour jusqu'à 5 précurseurs métalliques et 5 oxydants.
- Système d'alimentation en gaz : Séquence de pulses en flux laminaire, gestion optimisée par logiciel, composants de haute qualité (débitmètres massiques AERA, vannes APTECH et FUJIKIN, jauges INFICON).
- Options disponibles : Ozone, PEALD et pré-nettoyage plasma.
- Chambre de réaction : Acier inoxydable, aluminium, compatible avec les produits chimiques organométalliques.
- Conception optimisée pour la propreté et la facilité de maintenance.
- Cycle de croissance ALD : Temps de cycle inférieur à 1000 ms à 90°C pour Al2O3 avec TMA + H2O.
- Conformité CE : Selon EN 13849-1, EN 60204-1, EN 12000.
- Système de génération d'ozone : Conduite de gaz, générateur d'ozone, capteur de concentration d'ozone.
- Plasma capacitif pour PEALD.
- Spectromètre d'émission optique : Surveillance du plasma, combinaison de logiciels et de matériel.
- Système de précurseur chauffé supplémentaire : Rack de contrôle de température, vannes d'arrêt de sécurité, jauge capacitive chauffée.
- Moniteur à cristaux de quartz : Métrologie in situ par balance à Quartz QCM pour mesure d’épaisseur de dépôt.
- SAS de chargement mono wafer : permet d’optimiser les process de dépôt (performance et répétabilité).
- Sas de chargement à cassette : Chargement multi-substrat par cassette, programmation de recettes différentes, réduction des manipulations.
- Drybed Absorber CS Clean : Système de traitement des gaz résiduels, colonne absorbante rechargeable.
Contrat de maintenance préventive : 2 visites préventives par an, nettoyage et remplacement des canisters.
