Nettoyage des wafers

La série OPTIwet de Robotechnik comprend des systèmes de traitement humide haute performance conçus pour le nettoyage et la gravure de wafers ou de substrats. Ces systèmes sont idéaux pour obtenir d'excellents résultats de processus, de propreté et de répétabilité. La série OPTIwet comprend des modèles tels que OPTIwet ST30 et ST60, chacun adapté à des besoins et applications spécifiques.

L'OPTIwet ST30 est conçu pour des wafers jusqu'à Ø 12” ou des substrats jusqu'à 9” x 9”. Il dispose d'une chambre de processus optimisée avec une porte de chambre verrouillée, garantissant d'excellents résultats de processus1. L'OPTIwet ST60 prend en charge des wafers plus grands jusqu'à Ø 600 mm ou des substrats jusqu'à 400 mm x 400 mm, le rendant adapté à des applications plus étendues.

Avantages Techniques :

• Uniformité et Répétabilité: Le design optimisé de la chambre de processus assure une excellente uniformité et répétabilité du nettoyage et de la gravure sur différentes tailles de wafers.
• Polyvalence: Capable de gérer divers processus, y compris le nettoyage mécanique, la gravure, le lift-off et le séchage.
• Facilité d'Utilisation: Des fonctionnalités telles que les écrans tactiles, la vitesse et l'accélération programmables, et le changement facile des chucks améliorent l'expérience utilisateur et la maintenance.
• Automatisation: Des options pour les bras de média électroniques, les systèmes de distribution programmables et d'autres fonctionnalités automatisées améliorent l'efficacité et la répétabilité des processus.

Applications :

Ces systèmes de nettoyage sont largement utilisés dans l'industrie des semiconducteurs pour des processus tels que l'élimination des particules, la gravure de divers matériaux (par exemple, SiO2, TiW, Cu, Al, Cr) et le lift-off. Ils sont des outils essentiels pour obtenir un nettoyage et une gravure uniformes de haute qualité sur divers substrats, garantissant des performances optimales dans les étapes de fabrication ultérieures. Ils peuvent également être utilisés dans de nombreux autres domaines tels que l’optique, l’aérospatial, etc.