L'Infinity C200 d'Encapsulix est un équipement de dépôt par ALD (Atomic Layer Deposition) conçu pour des applications variées pour la R&D et la production, selon les standards de l’industrie 4.0.
Cet équipement donne accès à une technique de dépôt novatrice et breveté offrant des performances de dépôt inégalées en termes de vitesse et d’uniformité. Son fonctionnement intuitif et son chargement automatique permettent une prise en main aisée et une montée en cadence pour une production à fort rendement.
Fabriqué en France, il bénéficie d'un service après-vente et d'un support technique de qualité.
L'Infinity C200 présente de nombreux avantages:
- Technologie brevetée d'injection de gaz : Cette technologie permet une injection laminaire uniforme à grande vitesse, réduisant ainsi les dépôts parasites et améliorant l'efficacité du processus.
- Performances de dépôt exceptionnelles : Grâce à sa technologie avancée, l'Infinity C200 offre des vitesses de dépôt inégalées (jusqu’à 100A/min) et une uniformité de couche exceptionnelle (≤1% sur 200 et 300 mm).
- Polyvalence des applications : L'Infinity C200 est capable de réaliser des dépôts à haute et basse température, ce qui le rend adapté à une large gamme d'applications, y compris les OLED, les micro affichages, et les semi-conducteurs spécialisés.
- Ergonomie et compacité : Sa conception compacte permet une intégration facile dans divers environnements de production et R&D.
- Support technique et service après-vente : Fabriqué en France, l'Infinity C200 bénéficie d'un service après-vente réactif et d'un support technique efficace.
L’Infinity C200 est adapté à de nombreuses applications :
- OLED et Micro-Affichages : Il permet de réaliser des encapsulations de films minces (TFE) pour protéger les dispositifs OLED flexibles contre la corrosion et l'humidité, garantissant ainsi une durée de vie prolongée et une performance optimale.
- Électronique de Puissance : Dans le domaine de l'électronique de puissance, l'Infinity C200 est utilisé pour déposer des couches de protection sur les semi-conducteurs composés. Ces couches améliorent la fiabilité et la performance des dispositifs électroniques en réduisant les pertes et en augmentant la résistance aux conditions environnementales difficiles.
- Batteries : L’excellente conformité des dépôts est optimale pour cette application. L'Infinity C200 permet de déposer des couches minces sur les électrodes, améliorant ainsi leur stabilité chimique et leur performance. Ces dépôts contribuent à augmenter la capacité de stockage et la durée de vie des batteries.
- Semi-Conducteurs Spécialisés : L'Infinity C200 permet de déposer des couches de haute qualité sur des substrats variés. Ces dépôts sont essentiels pour les dispositifs nécessitant des propriétés électriques et optiques spécifiques.
- Optique Avancée : L’Infinity C200 permet de déposer des couches minces sur des composants optiques, améliorant ainsi leurs propriétés de transmission et de réflexion. Ces dépôts sont cruciaux pour les applications nécessitant une haute précision optique.
- Photovoltaïque : L'Infinity C200 est utilisé pour déposer des couches minces sur les cellules solaires, améliorant ainsi leur efficacité et leur durabilité. Ces dépôts permettent de protéger les cellules contre les dommages environnementaux et d'optimiser leur performance énergétique.
- MEMS : L'Infinity C200 permet de réaliser des dépôts de haute précision sur des structures complexes. Ces dépôts sont essentiels pour garantir la fiabilité et la performance des dispositifs MEMS.
- Système d'injection en gaz breveté : Injection laminaire uniforme à grande vitesse, purge ultra efficace, réduction du dépôt parasite.
- Vitesse de dépôt : jusqu’à 100 A/min
- Environ 30 fois plus rapide que les systèmes industriels standards.
- Uniformité des dépôts : ≤ 1% sur 200 et 300 mm.
- Taille des substrats : 200 mm (extension à 300 mm disponible)
- Configurable pour jusqu'à 6 gaz, 5 précurseurs métalliques et 3 oxydants.
- Système d'alimentation en gaz : Séquence de pulses en flux laminaire, gestion optimisée par logiciel, composants de haute qualité (débitmètres massiques AERA, vannes APTECH et FUJIKIN, jauges INFICON).
- Plasma capacitif (option) : Radicaux créés au plus proche du substrat, gravure plasma contrôlée, distribution uniforme des charges électriques.
- Chambre de réaction : Acier inoxydable, aluminium, compatible avec les produits chimiques organométalliques.
- Sas de chargement automatique (option) : Compatible avec les environnements à vide élevé, chargement et déchargement précis et contrôlé, mécanisme Z-lift pour un mouvement vertical précis.
- Système de génération d'ozone : Conduite de gaz, générateur d'ozone, capteur de concentration d'ozone.
- Système de précurseur chauffé supplémentaire : Rack de contrôle de température, vannes d'arrêt de sécurité, jauge capacitive chauffée.
- Moniteur à cristaux de quartz : Métrologie in situ par balance à Quartz QCM pour mesure d’épaisseur de dépôt.
- Spectromètre d'émission optique : Surveillance du plasma, combinaison de logiciels et de matériel.
- Sas de chargement mono wafer : permet d’optimiser les process de dépôt (performance et répétabilité).
- Sas de chargement à cassette : Chargement multi-substrats par cassette, programmation de recettes différentes, réduction des manipulations.
- Drybed Absorber CS Clean : Système de traitement des gaz résiduels, colonne absorbante rechargeable.
- Contrat de maintenance préventive : 2 visites préventives par an, nettoyage et remplacement des canisters.
