distributeur français d’équipements et consommables pour l’industrie du Semiconducteur.

Atomic Layer Deposition (ALD)

Technologie Encapsulix : innovante, rapide et efficace

Distribution extrêmement uniforme du flux de gaz à grande vitesse grâce à une conception unique des injecteurs, sous brevet.
Injection précise et rapide des gaz
Purge ultra haute efficacité (réduction temps de purge)
Conception très robuste (longue durée de vie)
Aucun dépôt parasite (ne nécessite pas de nettoyage)
Le temps de cyclage est environ 30 fois plus rapide qu’un équipement standard (jusqu’à 100 fois plus rapide).

Équipement compact, fiable et optimisé :

Flexibilité de la conception, pour les besoins de recherche et de production
Substrats de 200 mm ou grandes dimensions (wafers, verre, supports avec pièces 3D, etc.)
Plasma à couplage capacitif avec distribution uniforme des charges électriques
Autonome ou en grappe (MESC), cassette loadlock

Équipement hautement configurable :

6 gaz
5 précurseurs de métaux
4 oxydants (y compris l’ozone)
Métrologie in situ (QCM, ellipso métrie, spectrométrie d’émission, capteur Impédance,…)

Nos produits

Front End ALD Anric AT200M 1

AT200M

Front End ALD Anric AT410 1 Microtest

AT410/610/810

Front End ALD Anric AT650P 1

AT650 thermique ou plasma