Evaporation par effet Joule (résistif), par canon à électrons (electron gun) et/ou par induction.
- Particulièrement adapté pour lift-off
- Enceintes sur-mesure
- Traitement plasma, faisceau ionique (décapage ou assistance), oxydation ou recristallisation possibles
- Chargement auto ou manuel simple ou à partir de cassette 5 ou 25 wafers
- Chuck sur mesure (maintien par bride ou maintien électrostatique)
- Dépôts statiques, dynamiques, planétaires, double planétaires (satellitaire) et oscillants
- Sas possible
- Température du substrat possible de -60° à +1000°C
- Pompage automatique
- Possibilités multicouches avec multi-creusets
- Dopage possible
- Système de mesure d’épaisseur (interféromètre laser ou balance à quartz)
- Wafer jusqu’à 300 mm (plus sur demande)
