Evaporation (PVD)

Evaporation par effet Joule (résistif), par canon à électrons (electron gun) et/ou par induction.

• Particulièrement adapté pour lift-off
• Enceintes sur-mesure
• Traitement plasma, faisceau ionique (décapage ou assistance), oxydation ou recristallisation possibles
• Chargement auto ou manuel simple ou à partir de cassette 5 ou 25 wafers
• Chuck sur mesure (maintien par bride ou maintien électrostatique)
• Dépôts statiques, dynamiques, planétaires, double planétaires (satellitaire) et oscillants
• Sas possible
• Température du substrat possible de -60° à +1000°C
• Pompage automatique
• Possibilités multicouches avec multi-creusets
• Dopage possible
• Système de mesure d’épaisseur (interféromètre laser ou balance à quartz)
• Wafer jusqu’à 300 mm (plus sur demande)