distributeur français d’équipements et consommables pour l’industrie du Semiconducteur.

AT200M

tabletop, substrat 2’’, (ANRIC)
  • Faible encombrement (~ 15 in3 ou 38,1 cm3) pour s'intégrer facilement dans une boîte à gants ou à côté d'un évaporateur pour SEM/TEM.
  • Un précurseur et un contre-réactif (également disponible en option avec 4 ports)
  • Composants de qualité semi-conducteur
  • Lignes scellées au métal
  • Enceinte de précurseur ventilée
  • Vannes ALD compatibles avec les hautes températures, à pulsation rapide, avec un MFC ultra rapide pour la purge intégrée du gaz inerte.
  • Précurseurs (jusqu'à 150°C), collecteur, chambre chauffée pour assurer l'absence de condensation.
  • Interface utilisateur robuste pilotée par PLC
  • Chambre en acier inoxydable pouvant être chauffée à 300°C
  • Ecran 5″ avec contrôleur PLC intégré (pas de PC nécessaire)

CHAMBRE

  • Températures de la chambre de RT à 300°C ± 1 °C
  • Températures du précurseur de RT à 150°C ± 2°C (avec enveloppe chauffante)
  • Le plus petit encombrement du marché (1.6 sq ft), installation sur table, compatible avec les salles
  • blanches, peut également être placé dans une boîte à gants.
  • Maintenance simple du système et faible consommation d'énergie et de précurseurs.
  • Faible volume de la chambre
  • Capacité de cyclage très rapide.
  • Verrouillages HW et SW complets pour un fonctionnement sûr, même dans un environnement multi-utilisateurs.

 

LOGICIEL

  • Système PLC à interface homme-machine (IHM) avec écran tactile de 5 pouces.
  • Commandes avancées adaptées au dépôt de cycles ALD standard
  • Base de données de recettes pour des processus testés et de haute qualité
  • Écran de saisie des recettes personnalisées
  • Affichage en temps réel de l'état du processus
  • Températures des sources chauffantes programmables individuellement
  • Séquences d'impulsions intégrées pour les composés ternaires et les nano-laminés
  • Fonctionnement rapide avec des questions simples pour permettre à l'utilisateur de démarrer
  • Saisie de sous-cycles et de cycles globaux

OPTIONS

  • Pas d'intégration dans une boîte à gants (tient dans une boîte à gants).
    Chuck/plateau personnalisé (carré, circulaire, double substrat, paniers, petites pièces, substrats plus épais)
  • ATOzone - Générateur d'ozone (nécessaire pour certains films : Pt, Ir, SiO2, MoO2, Al2O3 de haute qualité en dessous de 60°C, HfO2 de haute qualité).
  • Option - Moniteur de sécurité pour l'ozone avec détection en temps réel de l'ozone gazeux ambiant
  • Option 4 ports (ex. : 2 précurseurs chauffés, 1 précurseur non chauffé, 1 contre-réactif)
  • Tambour de poudrage
  • Contrôle externe - liaison PC/logiciel (permet la programmation et le fonctionnement à distance)
  • Armoire à précurseurs ventilée incluse
  • Chambres de rechange

 

UTILITES

  • Le gaz de purge N2 doit être >99,9995% avec une vanne d'arrêt (régulée à 10 - 30 psi, scellée en métal),
  • Raccorder le gaz de purge à l'azote (UHP) via une conduite métallique étanche de 1/4″ au raccord de compression de 1/4″ à l'arrière de la chambre.
  • Fixer l'air sec et pur de 90-110 psi via un tuyau de polyéthylène de 1/4″ ou une conduite métallique à l'autre raccord à compression de 1/4″.
  • Fixer la pompe avec un tuyau à vide approprié de 1″ (de préférence en métal (SS)) (KF25), un joint torique et un collier de serrage.
  • L'autre côté (côté échappement) de la pompe à vide (* huile à vide perfluorée comme Fomblin, nécessaire) doit aller à l'échappement standard du laboratoire ou au toit avec un tirage > 5cfm (tuyau de 1″, également).
  • Au-delà d'un mètre, il faut utiliser des tubes de 1,5″ (NW40).
  • Les précurseurs se fixent à l'aide de coudes VCR femelles (toujours utiliser des joints neufs).
    Joint 1/4″ d'abord (avec des gants)

Connectez-vous à notre expert
Marie-Hélène BEDDELEM
mh.beddelem@microtest-semi.com
07.49.09.77.24