AT650 thermique ou plasma

CHAMBRE

• Températures du substrat de RT à 400°C ± 1 °C ; températures du précurseur de RT à 185°C ± 2°C (avec enveloppe chauffante)
• Faible encombrement (15″ par 15″), installation sur paillasse et compatibilité totale avec les salles blanches.
• Entretien simple du système et faible coût des consommables.
• Conception rationalisée de la chambre et faible volume de la chambre
• Possibilité de cycles rapides et de traitement à haute exposition et à fort relief.
• Verrouillages HW et SW complets pour un fonctionnement sûr, même dans un environnement multi-utilisateurs.

LOGICIEL

• Système PLC à interface homme-machine (IHM) avec écran tactile de 10 pouces
• Commandes avancées adaptées au dépôt de cycles ALD standard ainsi que, par exemple, de nanolaminés, de couches minces dopées et de couches minces ternaires.
• Base de données de recettes pour des processus testés et de haute qualité
• Écran de saisie de recettes personnalisées
• Affichage en temps réel de l'état du processus
• Températures des sources chauffantes programmables individuellement
• Séquences d'impulsions intégrées pour les composés ternaires et les nano-laminés
• Fonctionnement rapide avec des questions simples pour lancer l'utilisateur
• Saisie de sous-cycles et de cycles globaux

OPTIONS

• Amélioration du plasma
• Mandrin/plat personnalisé
• ATOzone - générateur d'ozone (nécessaire pour certains films : Pt, Ir, SiO2, MoO2, Al2O3 de haute qualité en dessous de 60°C, HfO2 de haute qualité)
• QCM (Microbalance à cristal de quartz)
• Lignes de contre-réactifs supplémentaires (contrôlées par MFC) - jusqu'à 2 supplémentaires
• 4ème précurseur chauffé en option (185°C)
• Contrôle externe - liaison PC/logiciel (permet la programmation et le fonctionnement à distance)
• Régime de pression plus élevé que le régime standard
• Systèmes personnalisés

UTILITES

• Le gaz de purge N2 doit être >99,9995% avec une vanne d'arrêt (régulée à 10 - 30 psi, scellée en métal).
• La ligne d'entrée est un raccord de compression VCR femelle ¼
• Raccorder le gaz de purge d'azote (UHP) à > 99,9995 % via une conduite métallique de 1/4″ au raccord de compression 1/4″ à l'arrière.
• Raccorder l'air sec propre (90-110 psi) via un tube de polyéthylène 1/4″ ou une conduite métallique à l'autre raccord de compression 1/4″ marqué CDA (Air sec propre).
• Min 19,5cfm pompe lubrifiée (**fluide à vide PTFE (comme Fomblin) requis)
• Connexion NW40 (1.5″) et également ligne d'échappement (avec un débit > 5cfm)
• Au-delà d'un mètre, utiliser une conduite d'échappement NW50.
• Les précurseurs se fixent à l'aide de coudes VCR femelles (toujours utiliser des joints neufs).
• Coude : Joint 1/4″ d'abord (avec des gants)