Nettoyage par plasma atmosphérique

Plasma Atmosphérique ONTOS TT

Le système ONTOS TT est un équipement révolutionnaire pour le nettoyage de substrat utilisant un plasma d’Hélium combiné avec différents gaz offrant des résultats exceptionnels :

• Élimine l’oxyde natif des surfaces métalliques et semi-conductrices.
• Élimine les films de contamination organique résiduels
• Procédé rapide, non toxique, sec et atmosphérique.
• Chimie de surface à faible énergie – sans danger pour les CMOS
• Préparation de surface idéale pour le collage direct (bonding)
• Configuration compacte sur table
• Intégration possible dans des systèmes automatiques