distributeur français d’équipements et consommables pour l’industrie du Semiconducteur.
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Système de photolithographie laser direct table top Dilase 250
Le Dilase 250 est un système de photolithographie table top haute résolution, pratique et spécialement conçu pour le prototypage rapide, la fabrication de masque de photolithographie et la microfabrication.
La chaine de traitement optique spécifique développée par KLOE offre une très grande profondeur de champs unique. Du fait de cette singularité et de son contrôle automatique en référence absolue, le Dilase 250 ne nécessite pas de système d’auto-focus.
La gamme Dilase offre des avancées majeures dans la photolithographie laser en particulier un haut facteur d’aspect de 1×20, un seul passage nécessaire et plusieurs modes d’écriture (vecteur, scan ou une combinaison des 2).
Equipement de lithographie laser sans masque Dilase 650
Le Dilase 650 est un équipement de photolithographie laser haute performance, donnant accès à une technologie sans masque extrêmement flexible, spécialement conçu pour accélérer le développement de nouveaux produits ou le prototypage, avec une optimisation des temps de process.
La chaine de traitement optique spécifique développée par KLOE offre une très grande profondeur de champs unique. Du fait de cette singularité, le Dilase 650 ne nécessite pas de système d’auto-focus.
La gamme Dilase offre des avancées majeures dans la photolithographie laser en particulier un haut facteur d’aspect de 1×20, un seul passage nécessaire et plusieurs modes d’écriture (vecteur, scan ou une combinaison des 2).
Système de photolithographie laser direct Dilase 750
Le Dilase 750 est un équipement de photolithographie laser haute résolution, haut de gamme et entièrement personnalisable. C’est un système entièrement fabriqué pour répondre aux besoins spécifiques pour le prototypage et la fabrication en production.
Un grand nombre d’options est accessible telles que l’alignement simple ou en face-arrière, l’écriture haute-résolution, l’écriture en très haute profondeur de champs, spot de forme circulaire ou carrée, l’écriture standard ou inclinée…
La gamme Dilase offre des avancées majeures dans la photolithographie laser en particulier un haut facteur d’aspect de 1×20, un seul passage nécessaire et plusieurs modes d’écriture (vecteur, scan ou une combinaison des 2).
